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        半導體組件空間單位都是以微米計算,因此微塵顆粒沾附在制作半導體組件的晶圓上,便有可能影響到其上精密導線(xiàn)布局的樣式,造成短路或斷路的嚴重后果。所有半導體制程設備都必須安置在隔絕粉塵進(jìn)入的密閉空間中,這就是半導體車(chē)間凈化的來(lái)由。


    一、半導體車(chē)間實(shí)景圖

    尖端半導體實(shí)景圖

    二、凈化原理

        在凈化工程中,含有雜質(zhì)的液化氣體通過(guò)第一吸收裝置以去除其液相中的雜質(zhì),從而產(chǎn)生初次凈化流體;使這初次凈化流體通過(guò)蒸發(fā)裝置以去除其中的雜質(zhì),從而產(chǎn)生二次凈化氣體;和使二次凈化氣體通過(guò)第二吸收裝置以去除其汽相中的雜質(zhì),從而達到凈化效果。


    三、技術(shù)要求及功能特點(diǎn)


    技術(shù)要求:

    1. 對生產(chǎn)環(huán)境清潔度要求極高;

    2. 選擇不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì)為主;

    3. 恒溫恒濕的系統要求使用;

    4.  所用的原材料需要符合工藝要求;

      功能特點(diǎn):

    5. 清潔度:半導體工藝對操作室清潔度要求極高,通常使用風(fēng)機抽取工藝過(guò)程中揮發(fā)的各類(lèi)廢氣,因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。

    6. 特殊性:所有人或事情進(jìn)出尖端半導體,必須穿配套防塵服,人或事物都要經(jīng)過(guò)風(fēng)淋室的吹淋已將表面的灰塵清洗掉;

    7. 防靜電:在材質(zhì)選擇方面,應該選擇不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì);

    8. 嚴謹性:所有經(jīng)凈化設備的空氣流動(dòng)方向均由上往下為主,因此,尖端半導體室內空間設計或機臺擺放應避免突兀,使塵埃細菌等在潔凈無(wú)塵車(chē)間內回旋停滯的機會(huì )與時(shí)間減至最低程度。


    四、應用場(chǎng)景

        半導體車(chē)間凈化裝修現在已經(jīng)廣泛運用于制藥工業(yè)、細菌學(xué)、生物學(xué)、潔凈實(shí)驗室等行業(yè)中,隨著(zhù)半導體凈化裝修日益地朝著(zhù)高集成度發(fā)展,這就要求各元件尺寸愈來(lái)愈微細,而硅片的面積向大型化方向發(fā)展,在一定程度上促進(jìn)的我國生物工程的發(fā)展。


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